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反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是一款獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品。具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔，便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口：一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷。反應(yīng)離子刻蝕機(jī)可以支持zui大到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì)，并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6Torr或更小的極限真空。反應(yīng)離子刻蝕機(jī)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥，一個(gè)250l/s的渦輪分子泵，濾網(wǎng)過濾器，以及一個(gè)10...

帶RIE等離子刻蝕機(jī)是干法刻蝕中zui常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。...

光學(xué)元件鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。光學(xué)元件鍍膜機(jī)使用步驟電控柜操作1.開水泵、氣源。2.開總電源。3.開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。4.開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5.觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽...

鍍膜機(jī)設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。⑦開復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號(hào)：Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”...

進(jìn)口微波去膠機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。進(jìn)口微波去膠機(jī)系統(tǒng)控制：PC,Windows,RS232,USB,Ethernet(也適用于遠(yuǎn)程控制)10.4”觸摸屏、圖形用戶界面WindowsOffice兼容存儲(chǔ)處理數(shù)據(jù)和錯(cuò)誤信息，處理數(shù)據(jù)輸出工藝參數(shù)圖形曲線的監(jiān)測(cè)自動(dòng)或手...

熱真空系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)控制、安全連鎖，以及多級(jí)密碼授權(quán)訪問保護(hù)的功能。熱真空系統(tǒng)可以用于超過24小時(shí)的圈子全自動(dòng)熱、冷循環(huán)情況下測(cè)試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統(tǒng)zui通常的應(yīng)用之一是太空模擬。熱真空系統(tǒng)腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個(gè)16"x32"的滑動(dòng)加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺(tái)也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個(gè)平臺(tái)的溫度均勻度可達(dá)/-1攝氏度。加熱平臺(tái)安裝在滾軸上，可以方便拉出zui大到75%的長度...

進(jìn)口掩模板清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。進(jìn)口掩模板清洗機(jī)技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時(shí)保證在樣片的損...

等離子刻蝕反應(yīng)離子刻蝕一體機(jī)又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中zui常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空...