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兆聲無損清洗設備不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲無損清洗設備理由是由高頻振效應并結(jié)合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，zui大瞬時速度可達到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。如何選購兆聲無損清洗設備，隨著“以養(yǎng)代修”理念的深進推廣，為了進步發(fā)...

微波等離子去膠機操作規(guī)程：1、自動切割小車應經(jīng)空車運轉(zhuǎn)，并選定切割速度；2、使用釷、鎢電極應符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；3、高頻發(fā)生器應設有屏蔽護罩，用高頻引弧后，應立即切斷高頻電路；4、應檢查并確認電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人員應站在上風處操作?？蓮墓ぷ髋_下部抽風，并宜縮小操作臺上的敞開面積；6、小車、工件應放在適當位置，并應使工件和切割電路正極接通，切割工作面下應設有溶渣坑；7、微波等離子去膠機應根據(jù)工件材質(zhì)、種類和...

汽輪機組的熱真空系統(tǒng)是由抽真空系統(tǒng)和密封蒸汽系統(tǒng)兩部分組成，其作用就是用來建立汽輪機組的低背壓，也就是用來建立凝汽器的高真空，使蒸汽能夠zui大限度的把熱焓轉(zhuǎn)變?yōu)槠啓C的動能。在汽輪機組尚未投入運行時，凝汽器中的真空取決于抽熱真空系統(tǒng)所建立的真空；在汽輪機組投入運行后，抽真空系統(tǒng)只是把泄漏到汽輪機內(nèi)部的空氣和不凝結(jié)氣體及時抽走，凝汽器內(nèi)的真空主要取決于進入凝汽器內(nèi)的蒸汽與循環(huán)冷卻水的熱交換情況，而蒸汽與循環(huán)冷卻水的熱交換情況主要取決于凝汽器的換熱面積、循環(huán)冷卻水溫度和循環(huán)水量...

兆聲無損清洗機不但保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲無損清洗機的機理是由高能(850kHz)頻振效應并結(jié)合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，zui大瞬時速度可達到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。兆聲無損清洗機的特點：兆聲能有效地清除亞微細顆粒。兆...

微波等離子清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。微波等離子清洗機技術的zui大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和...

一．產(chǎn)品結(jié)構(gòu)晶圓清洗機主要結(jié)構(gòu)特點：1、采用三套獨立的電腦控制機械臂自動化作業(yè)2、采用第三代技術，全面完善的防酸防腐措施，保護到機器每一個角落3、全自動補液技術4、*的硅片干燥前處理技術，保證硅片干燥不留任何水痕5、成熟的硅片干燥工藝，多種先進技術集于一身6、彩色大屏幕人機界面操作，方便參數(shù)設置多工藝方式轉(zhuǎn)換二．產(chǎn)品特點晶圓清洗機具有以下特點：1、械手或多機械手組合，實現(xiàn)工位工藝要求。2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面，操作便利。3、自動上下料臺，準確上卸工件。4、凈化烘干...

微波等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機在封裝工藝中的應用...

單片晶圓清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。單片晶圓清洗機提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。單片晶圓清洗機特點：臺式系統(tǒng)無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉(zhuǎn)甩干支持12”直徑的圓片或9”x9”方片...