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我們的優勢｜離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統有很強的適應性，可以根據不同的應用建立不同的結構，不同的樣品臺和離子源配置可實現不同的應用范圍。系統中的樣品臺可實現正負90°傾斜、旋轉、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術可控制基片溫度在50℃以內。通過傾斜和旋轉，深溝可切成斜角，通過控制側壁輪廓和徑向可提高均勻性，不同的構造不同的應用可選擇不同的選配項，也可增加濺射實現刻蝕之后的涂覆保護。應用十分廣泛。NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業中非常有競爭力，它憑什么可...

NANO-MASTERNLD-4000型等離子增強原子層沉積系統可以提供高品質的薄膜沉積，通過配套ICP離子源系統可以支持PEALD和T-ALD等廣泛應用。眾多的優勢配置，使得NLD-4000型系統具有許多優勢：√超高的薄膜均勻性√良好的粘附力√超凈的沉積（高真空支持）√出色的工藝控制√高度的可重復性（計算機全自動工藝控制）√易使用（可直接調用編好的工藝程序）√運行可靠（所有核心組件均帶有保護）√低維護（完整的安全互鎖）√高、低溫基片樣品臺√小的占地面積26”x44”√全自動...

隨著光學鍍膜設備的技能開展不斷改造，而硬質薄膜的設計向著多元化、多層膜的方向開展。變成現在公司選擇的鍍膜技能。今天咱們經過專家剖析后，給予具體作答。鍍膜機的正常操作辦法應當參閱操作手冊的指示操作。不過大致的操作程序，咱們簡略的說一下吧：1.查看光學鍍膜設備各操作操控開關是不是在"關"位置。2.翻開總電源開關，光學鍍膜設備送電。3.低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，發動升鐘罩閥，鐘罩升起。4.裝置固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在滾動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱...

隨著原子層沉積技術與其他先進技術不斷融合以及人們對原子層沉積設備的不斷改進，諸如“等離子體增強原子層沉積技術”、“空間式原子層沉積技術”、“流化床原子層沉積技術”等新型原子層沉積技術逐漸出現并在一定程度上有效解決了傳統熱原子層沉積技術所面臨的諸多難題。在過去二十多年，等離子體增強原子層沉積技術發展迅速。通過巧妙設計等離子體引入方式，人們已經設計出各種等離子體增強原子層沉積設備。從文獻報道來看，針對太陽能光伏領域的應用，一套成熟的空間式原子層沉積設備需保證每小時超過3000片1...

我們大部分人都知道等離子有清洗活化的功能，今天我們來探討下等離子去膠機。等離子去膠機反應機理：在干法等離子去膠技術中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果，電離發生氧離子、游離態氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體.等離子去膠操作方法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa，通入恰當氧氣，堅持真空室壓力在1.3-13Pa，加高頻功率，在電極間發生淡紫色輝光放電，經過調理功率、流量等技術參數，可得不一樣去膠速...

微波等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污潮物、油污或油脂。今天，我們來看看微波等離子清洗機操作注意事項與應用吧。1、正確設置等離子設備的運行參數，按時設備使用說明書來執行。2、保護好等離子體的點火裝置，以確保等離子清洗機可以正常的啟動。3、等離子設備在啟動前的準備工作，要對相關的人員進行培訓，按照要求嚴格執行各項操作...

我們的優勢｜NRE-4000型RIE-HCP系統NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系統，用于高速刻蝕硅、SiO2和Si3N4基片，通過配套HCP高密度中空陰極等離子源，系統可以支持RIE和RIE-HCP應用，提供廣泛的應用。眾多的優勢配置，使得NRE-4000型系統具有許多優勢：?超高的薄膜均勻性?良好的粘附力?超凈的沉積（高真空支持）?出色的工藝控制?高度的可重復性（計算機全自動工藝控制）?易使用（可直接調用編好的工藝程序）?運行可靠（所有核心組件均帶有...

試驗真空環境模擬為了考核和研究某些活動部件、伸展機構的干摩擦、冷焊性能和研究材料在真空條件下的升華、重量損失、老化等效應，需要在更高的真空度和其他空間環境因素的組合下進行試驗。大家都知道現在真空系統在各個行業的應用越來越廣泛，下面我們為大家介紹一下現在常用的熱真空系統在熱真空試驗設備中的應用吧。熱真空系統應用于半導體、集成電路、光電器件的制造工藝過程，是集成電路設備中的關鍵設備之一；它也用于各種其它鍍膜設備和真空應用設備中。真空系統在熱真空系統中的應用熱真空系統是指在真空和一...