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加熱后的氣體被導(dǎo)向真空壓力表，真空壓力表就會(huì)產(chǎn)生溫升。熱真空試驗(yàn)箱如果溫升超過(guò)了真空壓力表規(guī)定的使用溫度范圍，就可能使真空壓力表產(chǎn)生示值誤差。一般的熱真空試驗(yàn)箱均設(shè)有溫度均勻度參數(shù)：自然對(duì)流式的干燥箱為工作溫度上限乘3%，強(qiáng)制對(duì)流式的干燥箱為工作溫度上限乘2.5%。惟獨(dú)電熱真空干燥箱不設(shè)溫度均勻度參數(shù)，這是為什么？真空干燥箱內(nèi)依靠氣體分子運(yùn)動(dòng)使工作室溫度達(dá)到均勻的可能性幾乎已經(jīng)沒(méi)有了。因此，從概念上我們就不能再把通常電熱（鼓風(fēng)）干燥箱所規(guī)定的溫度均勻度定義用到真空干燥箱上來(lái)。...

在所有的清洗方式中，進(jìn)口晶圓清洗機(jī)是效率zui高、效果的一種，之所以超聲波清洗能夠達(dá)到如此的效果，是與它*的工作原理和清洗方法密切相關(guān)的。我們知道，在生產(chǎn)和生活當(dāng)中，需要清潔的東西很多，進(jìn)口晶圓清洗機(jī)需要清洗的種類(lèi)和環(huán)節(jié)也很多，如：物件的清除污染物，疏通細(xì)小孔洞，常見(jiàn)的手工清洗方法對(duì)異型物件以及物件隱蔽處無(wú)疑無(wú)法達(dá)到要求，即使是蒸汽清洗和高壓水射流清洗也無(wú)法滿(mǎn)足對(duì)清潔度較高的需求，超聲波清洗對(duì)物件還能達(dá)到殺滅細(xì)菌、溶解有機(jī)污染物、防止過(guò)腐蝕等，因此，進(jìn)口晶圓清洗機(jī)被日益廣泛應(yīng)...

在眾多半導(dǎo)體工藝中，刻蝕是決定特征尺寸的核心工藝技術(shù)之一。刻蝕分為濕法刻蝕和干法刻蝕。濕法刻蝕采用化學(xué)腐蝕進(jìn)行，是傳統(tǒng)的刻蝕工藝。它具有各向同性的缺點(diǎn)，即在刻蝕過(guò)程中不但有所需要的縱向刻蝕，也有不需要的橫向刻蝕，因而精度差，線(xiàn)寬一般在3um以上。RIE-PE刻蝕機(jī)是因大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的需要而開(kāi)發(fā)的精細(xì)加工技術(shù)，它具有各向異性特點(diǎn)，在zui大限度上保證了縱向刻蝕，還可以控制橫向刻蝕。介紹的RIE-PE刻蝕機(jī)就是屬于干法ICP刻蝕系統(tǒng)。RIE-PE刻蝕機(jī)為了適應(yīng)工藝發(fā)展需求，各...

微波等離子清洗機(jī)也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。微波等離子清洗機(jī)對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)...

繼NANO-MASTER*技術(shù)的帶淋浴頭氣流分布的平面ICP離子源應(yīng)用于NANO-MASTER的刻蝕系統(tǒng)，ICPECVD沉積系統(tǒng)，PA-MOCVD生長(zhǎng)系統(tǒng)之后，該ICP離子源順利應(yīng)用于ALD系統(tǒng)。由于該型技術(shù)設(shè)計(jì)的ICP源為平面設(shè)計(jì)的遠(yuǎn)程等離子源，可以在更低電源下達(dá)到更高的離子密度，具有電子溫度低、離子密度高、腔體空間占比低等優(yōu)勢(shì)，確保了該ALD系統(tǒng)具有薄膜無(wú)損傷、生長(zhǎng)速度快、脈沖周期短（沉積效率可以達(dá)到兩倍以上）的先進(jìn)性能。此外，可以實(shí)現(xiàn)低溫（100度以?xún)?nèi)）的薄膜生長(zhǎng)。

微波等離子清洗機(jī)技術(shù)在橡塑行業(yè)的應(yīng)用已非常成熟，其相關(guān)產(chǎn)值逐年增加，國(guó)外市場(chǎng)比國(guó)內(nèi)市場(chǎng)產(chǎn)值高，但國(guó)內(nèi)可發(fā)展空間大，應(yīng)用前景誘人。經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對(duì)消費(fèi)品的質(zhì)量要求也越來(lái)越高，微波等離子清洗機(jī)技術(shù)隨之逐步進(jìn)入生活消費(fèi)品生產(chǎn)行業(yè)中；另外，科技的不斷發(fā)展，各種技術(shù)問(wèn)題的不斷提出，新材料的不斷涌現(xiàn)，越來(lái)越多的科研機(jī)構(gòu)已認(rèn)識(shí)到等離子技術(shù)的重要性，并投入大量資金進(jìn)行技術(shù)攻關(guān)，微波等離子清洗機(jī)技術(shù)在其中發(fā)揮了非常大的作用。我們深信等離子技術(shù)應(yīng)用范圍會(huì)越來(lái)越廣；技術(shù)的成熟...

微波等離子清洗機(jī)優(yōu)勢(shì)：一、清洗對(duì)象經(jīng)微波等離子清洗機(jī)之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線(xiàn)的處理效率。二、微波等離子清洗機(jī)使得用戶(hù)可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性。四、微波等離子清洗機(jī)采用無(wú)線(xiàn)電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線(xiàn)不同。等離子體...

RIE-PE刻蝕機(jī)其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。RIE-PE刻蝕機(jī)是在濕法腐蝕技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的，屬于純化學(xué)性腐蝕。這種方法腐蝕均勻性好、損傷小，缺點(diǎn)是各向刻蝕同性，對(duì)于1μm以下的細(xì)線(xiàn)條線(xiàn)寬損失明顯。所以，在等離子刻蝕的基礎(chǔ)上改進(jìn)反應(yīng)結(jié)構(gòu)和接電方式，出現(xiàn)了反應(yīng)離子刻蝕。該方法加快了縱向的腐蝕速度，具有各向異性的腐蝕...